如（rú）何掌控真空鍍膜的均（jun1）勻性
我（wǒ）們先來認識（shí）下怎麽（me）調試鍍膜機，因為掌握調試鍍膜機是使（shǐ）用鍍（dù）膜機的關鍵怎麽調試鍍膜機
1、測（cè）試設備（bèi）的（de）抽真空速度，在測試過程中檢查漏氣情況與各真空泵的性（xìng）能；
2、測試設備的（de）密封性能，就是抽到極（jí）限後保壓1小時看壓降是否達標（biāo），同時排除（chú）細小（xiǎo）的漏孔；
3、產品試作，檢驗其他的性能（néng），比如傳動、加（jiā）熱、絕緣（yuán）等等（děng）；
4、如果有（yǒu）工藝保證的話就繼續打樣並作測試。
5、所有的測試應（yīng）作記錄（lù），並有（yǒu）記錄人簽字以及有使用部門或工程部門（mén）的人確認簽（qiān）字

怎麽掌控真空鍍（dù）膜的均勻（yún）性？
由（yóu）於車燈鍍膜機原理的不同分為很多種類（lèi），僅僅因為都（dōu）需要高真空度而擁有統一名稱。所以對於不（bú）同原理的真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。並且均勻性（xìng）這個概念本身也會隨（suí）著鍍膜尺（chǐ）度和薄膜成分（fèn）而有（yǒu）著不同的（de）意義，下麵分別說一下：

均勻性主要體（tǐ）現在3方麵：
1、厚度上的均（jun1）勻性，也可以理解為（wéi）粗糙度，在光學薄膜的（de）尺度上看（也就是1/10波長作為單位（wèi），約為100A），真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕鬆將粗糙度（dù）控製在可見光波長的1/10範圍內，也就是說對於多弧離子鍍膜機的光學特性來說，真空（kōng）鍍膜沒有任（rèn）何障礙。但是如果是指原子層尺度上的均勻度（dù），也就是（shì）說要實現（xiàn）10A甚至1A的表麵平整，是現在真空鍍膜中主要的技術含（hán）量與技術瓶頸所在。
2、化學組分上的（de）均勻性：就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由於尺度過小而很（hěn）容易的產生不（bú）均勻特（tè）性（xìng），SiTiO3薄膜，如果濺控濺射鍍膜機過程不科學，那麽實際表麵的組分並不是SiTiO3，而可（kě）能是其（qí）他的比例，鍍的膜並非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的（de）技術含量所（suǒ）在。
3、晶格有序度的均勻性：這（zhè）決定了薄膜是（shì）單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術中的熱點問題。 

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