本文從係統結構、參數控製和鍍膜方式等綜述了真空卷繞鍍膜技術研究（jiū）進展。按結（jié）構可分為單室、雙室和多室真空卷繞係統（tǒng），後兩者（zhě）可解決開卷放氣問題並分別控製卷繞和鍍膜室各自真空度。卷繞張力控製分錐度、間接和直接控製模型，錐度控製（zhì）模型可解決薄膜褶皺和徑向力分（fèn）布不均的問題；間接張力控製無需（xū）傳（chuán）感器，可用內置（zhì）張（zhāng）力控製模塊的矢量變頻器代替；直（zhí）接張力控製通過張力傳感器（qì）精確測量張力（lì）值，但需慣性矩和角速度等多種參數。真空卷繞鍍膜主要有真空蒸發、磁控濺射等方式，可用（yòng）於製備新型高折射率（lǜ）薄膜、石墨（mò）烯等納米材料和柔性太陽能電池等半導體器件。針對真空卷繞鍍膜技術研究現（xiàn）狀及向產業（yè）化過渡存在的問題，最後作了簡要分析與展望。

　　真空卷繞（rào）鍍膜(卷對卷)是在真空下應用不同方法在柔性基體上實現連續鍍膜的一種技術。它涵蓋真空獲得、機電控製、高（gāo）精傳動（dòng）和表麵分析等多方麵內（nèi）容。其（qí）重點（diǎn）是，在（zài）保證鍍膜質量前提下提高（gāo）卷繞速率、控製鍍膜穩定性及實施在線監控（kòng）。卷對卷技術成（chéng）本低、易操作、與柔性基底相容、生產率高及可連續鍍多層膜（mó）等優點。第一台真空蒸發卷繞鍍膜機1935年製成，現可鍍幅寬由500 至2500mm。卷對卷技術應用由包（bāo）裝（zhuāng）和裝飾用膜，近年逐漸擴大至激光防偽膜、導電等功能（néng）薄膜方麵，是未來柔性電子（zǐ）等行業的（de）主流技術之一。

　　目前，國（guó）際前沿（yán）是（shì）研究（jiū）不（bú）同製備工藝（yì）下功能薄膜特性並完善複合膜層製備。卷（juàn）繞鍍膜機有向大型工業化和小型科研化方向發展的兩種趨勢，國內蘭州真空（kōng）設備、廣東中環真空設備等（děng）公司多生產大型（xíng）工業卷（juàn）繞設備（bèi）， 國外如TW Graphics 和Intellivation 公司等，主要為科研機構提供小（xiǎo）型或微型卷繞鍍膜機。

        真空卷繞鍍膜設備（bèi）分類
　　真空卷對卷設備由抽真空、卷繞（rào）、鍍（dù）膜和（hé）電氣控製等（děng）係統（tǒng）組成。據真空室有無擋板，可分單室、雙室和多室結構。單室的收放卷輥和鍍膜輥在同一室中，結（jié）構簡單但開卷時放氣會（huì）汙染真空（kōng）環境。雙室結構（gòu）將係統（tǒng）用擋板隔成卷繞和鍍膜室，卷（juàn）輥與擋板間隙約1.5mm，避免了類似（sì）開卷放（fàng）氣問題。多室常用於（yú）製備複合薄（báo）膜，在雙（shuāng）室（shì）基礎（chǔ）上將相鄰鍍膜區用擋板隔開避免幹擾（rǎo）。如Krebs 等將Skultuna Flexibles AB 的開普頓（dùn）擋板固定於兩磁控（kòng）濺射靶間，板兩側塗覆（fù）50μm 的銅層。

　　分隔擋板與真空室壁（bì）狹縫越小越好。據鍍膜時輥筒作用分為單主輥和多主輥卷繞鍍膜機。據電（diàn）機個數，則可分為兩電（diàn）機、三電機和四電（diàn）機驅動係統。

        總結與展望

　　真空卷繞鍍膜因其大麵積、低成本（běn）、連續性等特點，比間歇式鍍膜有很大優勢，廣受國內外研究者和企（qǐ）業關注。當前卷繞鍍膜技術進展較快，解決了鏤空線、白條（tiáo）、褶皺等問（wèn）題，開始用（yòng）於製備石墨烯、有機（jī）太（tài）陽（yáng）能電池和透明（míng）導電薄膜等新型功能介質與器件。故對製膜（mó）過程和成膜質量（liàng）提出了更高要（yào）求，真空機組主泵選擇從大抽（chōu）速擴散泵發展到（dào）無油（yóu）超高真空分子泵（bèng）和（hé）低溫泵，開發出（chū）了大包角雙冷卻輥鍍膜機以減小薄膜拉（lā）伸變形。張力（lì）控製多用考慮夾感應張力的收（shōu）卷模型和（hé）單跨非線性動力（lì）學的放卷模型。

　　目前卷繞鍍膜的精密控製有待提高，例如（rú）轉印石墨烯時，難以徹底去除基底和石墨烯間（jiān）的熱解膠，且卷繞速度過快或基底（dǐ）較硬（yìng）引發的切應力會使石墨烯層形成裂縫或孔洞。又如，真空卷繞發製備的有機薄（báo）膜表麵缺陷多，載流子遷移率較低，進而嚴（yán）重影響其器件的光電特性。未來應增設薄膜應力等測控單元，融合CVD、離子鍍、高壓靜電紡絲、真空噴射和原（yuán）位聚合等成膜技（jì）術，為開發新（xīn）型有（yǒu）機及其無機複合功能薄膜（mó）和器件提供保（bǎo）障。

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